EDI�߼�ˮ�O(sh��)��������ȡ����ˮ���O(sh��)��,�����鷴�B͸�O(sh��)���Ķ��γ��}�O(sh��)��,��������ȡ�����_10-18.2MΩ.CM����ˏV������΢��ӹ��I(y��),���댧(d��o)�w���I(y��),���l(f��)늹��I(y��),����ˎ�ИI(y��)�͌���ҡ�Ҳ����������ˎ���sˮ,��ʳ���������a(ch��n)��ˮ,���l(f��)늏S��偠t���a�oˮ���Լ�������(y��ng)�ø߼�ˮ,��

��,���߼�ˮ�O(sh��)��ı��|(zh��)��ԭ��

�B�m(x��)늳��}��EDI��Electro deionization��CDI,��continuous electrode ionization),�����û���x�ӽ��Q��֬�����oˮ�е����x��,��ͬ�r�@Щ���������x������ֱ��늉��������£��քe͸�^���x�ӽ��QĤ������ȥ���^��,���@һ�^���x�ӽ��Q��֬����B�m(x��)������,����˲���Ҫʹ����͉A��֮�������@һ�¼��g(sh��)����������y(t��ng)���x�ӽ��Q�b��,�����a(ch��n)�����_18M-CM�ij���ˮ,���ֿ��Ա��^�������������£�EDI���������x��Ĥ�����Ì��Q�ѷŵ���ʽ,�����,����x��Ĥ���g�A��ꎡ���x�Ә�֬,���քe��ֱ��늉���������,���M��ꎡ���x�ӽ��Q,����ͬ�r��늉��ݶȵ�������,��ˮ���l(f��)��늽�a(ch��n)������H+��OH-���@ЩH+��OH-���x��Ĥ���g���,����x�Ӳ�����M��������,������EDI��ͣ�M�н��Q——������ʹ�ü�ˮ��Խ��Խ��,������,���p�����e�Įa(ch��n)���˸߼��ȵĸ߼�ˮ��

��,��EDI�߼�ˮ�O(sh��)��ĽM�ɲ���

1,�����������M��Electropure XL-400ģ�K5�K��

2,�� ����Hanna�����,��늌�(d��o)���ھ��O(ji��n)��(c��)�x��һ�M��

3,���Դ����ϵ�y(t��ng)����Ҫ���Ԫ����ʩ�˵�,���Wķ�������a(ch��n)��(y��u)�|(zh��)����,������PLC���ƣ�늄����y,��ʩ�˵����Ԫ��,��

�ġ�EDI�߼�ˮ�O(sh��)�����܃�(y��u)��

1,�����B�m(x��),����(w��n)�������a(ch��n)��Ʒ�|(zh��)��ˮ���o�����֬������ͣ�C,��

2,���o��Ⱦ���ŷţ��ȭh(hu��n)����ʡȥ�ˏUҺ̎����Ͷ�Y,��

3,���O(sh��)��Y(ji��)��(g��u)�o����ռ����eС,����(ji��)ʡ���g,��ͬ�r߀���й�(ji��)�܃�(y��u)�c��

4,�����S����b���{(di��o)ԇ,���F(xi��n)��������С���ύ���Ӗ(x��n)����,��

5,���ճ����B(y��ng)����������,���ڄӏ��ȵ�,��

6��Ó�}�ʴ���99.9%,��Ч���h�h���ڃɼ����B͸�͆μ����x�ӽ��Q��