�� MAC C NO3+NO2,���ھ������������x
 |
�˚⣺2442 �l(f��)���r(sh��)�g��2009-09-08 19:43 �P(gu��n)�I�~���O(ji��n)�y(c��)�z�y(c��)�x �a(ch��n)Ʒ��̖(h��o)�� ��(y��ng)���I(l��ng)��늴�ݗ�� �a(ch��n)Ʒ�r(ji��)�����h ���˽����a(ch��n)ƷԔ�飬Ո(q��ng) |
 |
μ MAC C NO3+NO2,���ھ������������xһ�N��X���Ƶ�ȫ�Ԅ�(d��ng)���ھ�ˮ�|(zh��)�����x,�����m���ڶ�Nˮ�|(zh��)���ˮ���ر�ˮ���I(y��)�Uˮ,��
�������ھ������xμ MAC C NO3+NO2�ą���(sh��)�f����
��ԭ����NED/SAA��ɫ��
����ɫӋ(j��)��525 nm
���y(c��)����ͣ�ѭ�h(hu��n)�y(c��)��
���y(c��)���g�����ɾ���
���y(c��)���r(sh��)�g��5��8 min
���y(c��)��������0��0.2/0.7/2/5/10/20/100/200ppm
�������̿��x
���z�y(c��)�ޣ���(y��u)��2%
���جF(xi��n)�ԣ���(y��u)��2%
����̖(h��o)ݔ����4��20mAģ�M��̖(h��o),�����ؓ(f��)�d400Ω
��ͨӍ����(bi��o)��(zh��n)RS232�ӿ�
����̖(h��o)ݔ�룺1·������1·У��
����(b��o)����1·���ވ�(b��o)��,��1·У��
����Ʒ�͏UҺ��ݔ�ͣ��o��,��10��30��
��ˎ�����Q��3��4�ܣ�����(j��)�\(y��n)�Мض�������׃
���h(hu��n)���ضȣ�5��40��
�����o(h��)�ȼ�(j��)��IP55
��Ӳ����PC104���I(y��)��(bi��o)��(zh��n),�������I�P,��RS232
���Դ��220VAC��50Hz
��������33kg������ˎ����
���ߴ磺800H×450W×300D mm
���J(r��n)�C����(gu��)�HCE,��ISO9001��2000���Ї�(gu��)CPA
